中國國産浸沒式DUV光刻機實現量産 國産高端芯片裝備邁出關鍵一步

【美南新聞·泉深】據路透社獨家報道，中國已開始量産自主研發的浸沒式深紫外（Immersion DUV）光刻機，這是中國半導體産業發展曆程中的一項重要突破，也標志著中國在先進芯片制造核心裝備領域取得關鍵進展，爲減少對國外高端光刻設備的依賴邁出了具有戰略意義的一步。

消息人士透露，此次量産工作由上海愛生納電子科技集團（Shanghai Aishengna Electronic Technology Group）主導推進。這家國有企業于2023年成立，注冊資本約70億元人民幣，並整合了中國多家光刻設備研發團隊，包括上海微電子（SMEE）及其他本土光刻技術企業的人才和技術資源，集中力量攻克高端光刻裝備這一長期受制于人的核心技術。

浸沒式DUV爲何意義重大？

光刻機被譽爲芯片制造産業鏈中最複雜、技術含量最高的設備，被稱爲半導體工業的“皇冠上的明珠”。

目前全球先進光刻機主要分爲：

* EUV（極紫外光刻機）：主要用于3納米、2納米等最先進芯片制造，目前全球只有荷蘭ASML能夠商業化生産。

* Immersion DUV（浸沒式深紫外光刻機）：采用193納米激光，並利用純水提高光線折射率，可制造28納米芯片，並結合多重曝光（Multi-patterning）技術生産7納米甚至更先進制程芯片。

由于美國及其盟友近年來持續加強出口管制，中國企業無法獲得最新EUV設備，而浸沒式DUV便成爲目前中國先進芯片制造最重要的設備之一。

首批設備今年交付國內龍頭企業

報道稱，首批國産浸沒式DUV光刻機預計將在今年交付，包括：

* 中芯國際（SMIC）

* 華虹半導體（Hua Hong Semiconductor）

* 長鑫存儲（CXMT）

初期産量仍然有限，預計2026年生産約5台，2027年提升至約20台，爲國內晶圓制造企業提供國産化設備選擇。

對ASML構成長遠挑戰

長期以來，荷蘭ASML幾乎壟斷全球高端DUV及EUV光刻設備市場。

中國國産設備量産消息公布後，引發資本市場強烈反應。ASML股價一度大跌超過7%，隨後跌幅進一步擴大，歐洲半導體設備相關企業股價也普遍下挫，顯示投資者擔憂中國未來可能逐步削弱ASML在中國市場的重要地位。

不過，多位分析人士認爲，目前國産設備在精度、穩定性、生産效率和長期可靠性方面，與ASML成熟産品仍存在明顯差距，因此短期內不會對ASML全球市場形成實質性沖擊。

中國半導體自主化取得階段性突破

近年來，美國持續擴大對中國半導體産業的出口限制，包括限制EUV設備出口，並不斷收緊DUV設備及相關維護服務。

在此背景下，中國持續加大半導體産業投入，推動EDA軟件、刻蝕設備、薄膜沉積設備、檢測設備以及光刻機等關鍵領域國産化。

業內人士認爲，此次浸沒式DUV光刻機進入量産，意味著中國已經突破先進光刻設備研發的重要門檻。雖然距離國際領先水平仍有距離，但從“研發成功”邁向“批量制造”，代表中國在高端半導體裝備自主可控道路上邁出了具有裏程碑意義的一步。

未來，隨著設備不斷迭代升級、良率提升和産業鏈完善，中國國産光刻機有望逐步擴大市場應用範圍，爲中國半導體産業建立更加自主、安全和穩定的供應體系提供重要支撐。